HUBISLAB A.C Clearing Purifying Mask | Puhastav näomask probleemsele ja rasusele nahale 230 ml

HUBISLAB A.C Clearing Purifying Mask | Puhastav näomask probleemsele ja rasusele nahale 230 ml
HUBISLAB A.C Clearing Purifying Mask | Puhastav näomask probleemsele ja rasusele nahale 230 ml
-20%
HUBISLAB A.C Clearing Purifying Mask | Puhastav näomask probleemsele ja rasusele nahale 230 ml
HUBISLAB A.C Clearing Purifying Mask | Puhastav näomask probleemsele ja rasusele nahale 230 ml
HUBISLAB A.C Clearing Purifying Mask | Puhastav näomask probleemsele ja rasusele nahale 230 ml
Alates Salvesta -20%
38.19€
47.65€
Maksudeta: 30.80€

Tootekirjeldus
Puhastav mask koos Cynanchum'i juurte ja akatsiaekstraktidega, mis aitavad vähendada naha ärritust, põletikku ja liigset rasuproduktsiooni. Valemis sisalduv akatsiaekstrakt toimib loodusliku antibakteriaalse ja põletikuvastase ainena, aidates parandada akne seisundit ja vähendada naha punetust. Mask puhastab poorid sügavuti, vähendab läiget ja aitab taastada naha tasakaalu, muutes selle siledaks ja puhtaks.

Tõhusus
Rahustab põletikulist nahka, reguleerib sebumi eritumist ja aitab vähendada vistrikke. Taastab naha barjääri ning pakub antibakteriaalset kaitset. Pärast kasutamist näeb nahk välja värskem, mati ja ühtlasem.

Peamised toimeained
– Cynanchum'i juureekstrakt – rikas vitamiinide ja mineraalainete poolest, vähendab ärritust ja parandab naha mugavust.
– Akatsiaekstrakt – tugev antibakteriaalne ja põletikuvastane komponent, mis aitab võidelda põletike ja aknega.
– Cynanchum Atratum ekstrakt – kliiniliselt tõestatud koostisosa, mis tugevdab naha kaitsebarjääri ja rahustab.
– Anti Sebum P kompleks – mändeokste, õhtuhariliku (evening primrose) ja Cynanchum'i juurte segu, mis tasakaalustab nahka, niisutab ja puhastab poorid.
– Aloe vera mahl – niisutab, rahustab ja aitab taastada naharakke.
– Teepuuekstrakt – antibakteriaalne ja põletikuvastane aine, mis vähendab sebumi eritumist ja toniseerib poorid.
– Allantoiin – aitab taastada kahjustatud naharakke ja soodustab regeneratsiooni.

Kasutamine
Kandke näole ühtlaselt ja jätke 15–20 minutiks. Eemaldage ülejäägid salvrätiku või vatipadja abil ning pühkige toonikuga.

Tootmisriik
Lõuna-Korea – HUBISLAB

Lisa arvamus

Märkus: HTML kood ei ole lubatud!
Hinne
Halb Hea
Captcha